多次來到光谷，習(xí)近平為何重點(diǎn)關(guān)注這個(gè)領(lǐng)域？
更新時(shí)間：2024/11/9 8:31:49 來源：人民日?qǐng)?bào)客戶端
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 11月5日下午，習(xí)近平總書記到武漢產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展研究院考察，觀看科技創(chuàng)新供應(yīng)鏈平臺(tái)成功案例展示和科技創(chuàng)新成果，了解推進(jìn)科技創(chuàng)新的舉措，同科研人員和企業(yè)負(fù)責(zé)人深入探討交流。 2013年至今四赴光谷實(shí)地調(diào)研，今年在多地考察重點(diǎn)關(guān)注，習(xí)近平總書記對(duì)科技創(chuàng)新的關(guān)切和重視，始終如一。① |
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11月5日下午，習(xí)近平總書記到武漢產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展研究院考察，觀看科技創(chuàng)新供應(yīng)鏈平臺(tái)成功案例展示和科技創(chuàng)新成果，了解推進(jìn)科技創(chuàng)新的舉措，同科研人員和企業(yè)負(fù)責(zé)人深入探討交流。 2013年至今四赴光谷實(shí)地調(diào)研，今年在多地考察重點(diǎn)關(guān)注，習(xí)近平總書記對(duì)科技創(chuàng)新的關(guān)切和重視，始終如一。① |
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